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J-GLOBAL ID：202303007981480317

酸化ストレスに起因する疾患の予防又は治療剤

Inventor： 島田 昌一 ,  小山 佳久 ,  近藤 誠 ,  小林 光 ,  小林 悠輝
Applicant, Patent owner： 国立大学法人大阪大学
Agent (4)： 庄司 隆 ,  資延 由利子 ,  大杉 卓也 ,  平田 緑
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2019106147
Publication number (International publication number)：2019214556
Patent number：7333941
Application date： Jun. 06, 2019
Publication date： Dec. 19, 2019
Claim (excerpt)：

【請求項1】シリコン微粒子を含有する炎症性疾患の予防又は治療剤であって、該シリコン微粒子は、表面に酸化シリコン膜が形成されているシリコン結晶子であり、該炎症性疾患は、消化管の炎症性疾患又は皮膚炎である、予防又は治療剤。

IPC (8)：

A61K 33/00 ( 200 6.01) ,  A23L 33/21 ( 201 6.01) ,  A61K 9/14 ( 200 6.01) ,  A61K 9/16 ( 200 6.01) ,  A61P 1/04 ( 200 6.01) ,  A61P 17/00 ( 200 6.01) ,  A61P 29/00 ( 200 6.01) ,  A61P 39/06 ( 200 6.01)

FI (8)：

A61K 33/00 ,  A23L 33/21 ,  A61K 9/14 ,  A61K 9/16 ,  A61P 1/04 ,  A61P 17/00 ,  A61P 29/00 ,  A61P 39/06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 水素水、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-237328   Applicant：株式会社KIT
• シリコン微細ナノ粒子及び/又はその凝集体及び生体用水素発生材及びその製造方法並びに水素水とその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-162520   Applicant：株式会社KIT

Cited by examiner (2)

• 水素水、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-237328   Applicant：株式会社KIT
• シリコン微細ナノ粒子及び/又はその凝集体及び生体用水素発生材及びその製造方法並びに水素水とその製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-162520   Applicant：株式会社KIT

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• J Nanopart Res, 2017, Vol. 19, 176, pp. 1-9
• Oxidative Medicine and Cellular Longevity, 2012, Vol. 2012, Article ID 353152, pp. 1-11

Cited by examiner (2)

• J Nanopart Res, 2017, Vol. 19, 176, pp. 1-9
• Oxidative Medicine and Cellular Longevity, 2012, Vol. 2012, Article ID 353152, pp. 1-11