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J-GLOBAL ID:202303011973695930
匂い検出装置及び匂い検出方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
廣澤 勲
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2020216268
Publication number (International publication number):2022101899
Patent number:7354521
Application date: Dec. 25, 2020
Publication date: Jul. 07, 2022
Claim (excerpt):
【請求項1】 匂い物質が供給されると、その匂い物質に反応してセンサ部の抵抗値が変化するセンサ素子と、前記センサ部に温度変化を付与する温度制御装置と、前記センサ部の抵抗値の変化を示す抵抗値信号を取得し、この抵抗値信号を分析することによって、供給された前記匂い物質を特定する匂い物質分析手段とを備え、 前記温度制御装置は、前記センサ部の温度変化の波形が、振動の振幅及び周波数が規則的に変化する動作を一定の周期で繰り返す波形になるように制御し、 前記匂い物質分析手段は、取得した前記抵抗値信号の周波数スペクトルを分析することによって、前記センサ部に供給された前記匂い物質を識別することを特徴とする匂い検出装置。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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ガス測定装置、ガス警報装置及びガス測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-096184
Applicant:モトサンエンジニアリング株式会社
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知能型ガス識別システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-063214
Applicant:財団法人工業技術研究院
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マルチガス感知システム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2019-560183
Applicant:ロイヤル・メルボルン・インスティテュート・オブ・テクノロジー
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ガスの識別検知方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-163196
Applicant:新コスモス電機株式会社
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分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-115990
Applicant:株式会社堀場製作所
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ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-232342
Applicant:エヌオーケー株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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Characteristic responses of a semiconductor gas sensor depending on the frequency of a periodic temp
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Gas sensing behavior of a single tin dioxide sensor under dynamic temperature modulation
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