Pat
J-GLOBAL ID:202303012502871998
ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物、それを用いたデバイスの製造方法。
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
SK弁理士法人
, 奥野 彰彦
, 伊藤 寛之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2022025487
Publication number (International publication number):2023122060
Application date: Feb. 22, 2022
Publication date: Sep. 01, 2023
Summary:
【課題】感度に優れたレジスト組成物に用いるポリマーを提供することを課題とする。当該ポリマーを含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】オニウム塩構造を有するユニットAを含むポリマーであって、前記ユニットAが下記式(1)で示されるユニットであるポリマーとする。
JPEG
2023122060000103.jpg
59
153
(式(1)中、R
1
、L、Sp、X
1
-
、およびM
1
+
は特定の構造をとる)
【選択図】なし
Claim (excerpt):
オニウム塩構造を有するユニットAを含むポリマーであって、前記ユニットAが下記式(1)で示されるユニットである、ポリマー。
IPC (4):
C08F 220/38
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/20
FI (5):
C08F220/38
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/20 501
, G03F7/20 521
F-Term (62):
2H197AB15
, 2H197CA02
, 2H197CA03
, 2H197CA09
, 2H197CA10
, 2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197JA22
, 2H225AF39P
, 2H225AF44P
, 2H225AF71P
, 2H225AH02
, 2H225AH31
, 2H225AJ12
, 2H225AJ42
, 2H225AJ70
, 2H225AN42P
, 2H225AN54P
, 2H225BA01P
, 2H225CA12
, 2H225CB14
, 2H225CB18
, 2H225CC03
, 2H225CC15
, 2H225CD02
, 2H225CD06
, 4J100AB07R
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03S
, 4J100BA03T
, 4J100BA05P
, 4J100BA05Q
, 4J100BA05T
, 4J100BA17P
, 4J100BA50P
, 4J100BA51P
, 4J100BA56P
, 4J100BA94R
, 4J100BB05T
, 4J100BB07P
, 4J100BB07T
, 4J100BB10P
, 4J100BB10T
, 4J100BC04T
, 4J100BC43P
, 4J100BC43Q
, 4J100BC43R
, 4J100BC43S
, 4J100BC43T
, 4J100BC65P
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
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