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J-GLOBAL ID：202303012540143653

X線回折による高分子測定方法

Inventor： 稲益 礼奈 ,  山口 央基 ,  佐々木 裕次 ,  三尾 和弘
Applicant, Patent owner： ダイキン工業株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 川本 真由美 ,  式見 真行 ,  畠中 省伍
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2023044179
Publication number (International publication number)：2023075325
Application date： Mar. 20, 2023
Publication date： May. 30, 2023
Summary：

【課題】表面(界面)における高分子の運動を測定でき、X線の全反射状態で高分子を観測することによって、標識なしに観測対象の表面近傍の情報が得られる、分析装置および分析方法を提供する。 【解決手段】高分子のX線に対する全反射角度前後でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置:ならびにX線の全反射角度でX線を高分子試料に照射する工程、時分割回折・散乱像を取得し、高分子表面の運動性を評価する工程を有する、高分子の分析方法。 【選択図】図3

Claim (excerpt)：

臨界角前後の入射角でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置。

IPC (1)：

G01N 23/205

FI (2)：

G01N23/2055 310 ,  G01N23/205

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 運動計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-226495   Applicant：国立大学法人東京大学