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J-GLOBAL ID：202303016804816185

光周波数掃引レーザ光源

Inventor：
稲場 肇

About 稲場 肇

, 
大久保 章

About 大久保 章


Applicant, Patent owner：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

About 国立研究開発法人産業技術総合研究所


Agent (1)： 原田 一男
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2020010693
Publication number (International publication number)：2021118258
Patent number：7376917
Application date： Jan. 27, 2020
Publication date： Aug. 10, 2021
Claim (excerpt)：
【請求項1】 第1のレーザ光を出力する第1のレーザ光源と、 周波数可変の第2のレーザ光を出力する第2のレーザ光源と、 前記第2のレーザ光の一部を変調周波数で周波数変調して、前記第2のレーザ光の周波数と前記変調周波数だけ異なる周波数を有する第3のレーザ光を出力する電気光学変調部と、 前記第1のレーザ光と前記第3のレーザ光とを干渉させて前記第1のレーザ光の周波数と前記第3のレーザ光の周波数との差に対応し且つ電気信号である差周波信号を生成する差周波信号生成部と、 前記差周波信号に基づき、前記差が所定の固定周波数となるように前記第2のレーザ光の周波数を制御するための信号を前記第2のレーザ光源に出力する制御部と、 掃引可能な前記変調周波数の変調信号を前記電気光学変調部に出力する周波数シンセサイザと、 を有し、 前記第2のレーザ光の他の一部を出力光とする 光周波数掃引レーザ光源。
IPC (6)：
H01S 3/13 ( 200 6.01) ,  G02F 1/377 ( 200 6.01) ,  G02F 2/02 ( 200 6.01) ,  H01S 3/00 ( 200 6.01) ,  H01S 5/0687 ( 200 6.01) ,  H01S 5/40 ( 200 6.01)
FI (6)：
H01S 3/13 ,  G02F 1/377 ,  G02F 2/02 ,  H01S 3/00 G ,  H01S 5/068 ,  H01S 5/40
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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