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J-GLOBAL ID：201602268016328627   整理番号：16A0614857

HVMリソグラフィーのための250W EUV光源の開発【Powered by NICT】

Development of 250W EUV light source for HVM lithography

著者 (15件)： Mizoguchi Hakaru (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Nakarai Hiroaki (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Abe Tamotsu (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Nowak Krzysztof M (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Kawasuji Yasufumi (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Tanaka Hiroshi (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Watanabe Yukio (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Hori Tsukasa (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Kodama Takeshi (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Shiraishi Yutaka (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Yanagida Tatsuya (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Yamada Tsuyoshi (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Yamazaki Taku (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Okazaki Shinji (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan) ,  Saitou Takashi (Gigaphoton Inc. Hiratsuka facility:3-25-1 Shinomiya Hiratsuka Kanagawa, 254-8567, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： CSTIC  ページ： 1-4  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： は2003年以来HVM EUVL用の13.5nm高出力光源として最も有望な解であるCO2Sn LPP EUV光源を開発してきた。;のようなユニークな独自の技術磁場を伴うパルスCO2レーザとSn液滴,二波長レーザパルスシューティングと緩和の組合せはGigaphoton社で開発された。理論と実験データは,提案した戦略の利点を明らかにした。108W EUV電力(バーストにおけるクリーンI/F),プロト#2装置で80kHz,24時間安定動作を実証した。これらの実験データに基づいて,著者らは現在HVMのための最初の実用的源を構築している「GL200Eパイロット#1」。この装置の標的は27kWパルスCO2駆動レーザシステムによる250W EUVパワーである。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： バースト ,  磁場 ,  液滴 ,  *光源 ,  二酸化炭素 ,  パルス ,  レーザシステム ,  炭酸ガスレーザ ,  電力 ,  スズ ,  *リソグラフィー
準シソーラス用語： 二波長レーザ ,  高出力 ,  極端紫外線リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： パターン認識  (JE07000S)

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  EUV光源 ,  開発