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J-GLOBAL ID：201702231166006595   整理番号：17A0644069

一様な周期的ナノ構造形成のためのLloyd’s干渉リソグラフィシステムにおける屈折式ビーム整形の採用

Employing refractive beam shaping in a Lloyd’s interference lithography system for uniform periodic nanostructure formation

著者 (5件)： Hung Yung-Jr (Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, No. 70, Lienhai Rd., Kaohsiung 804, Taiwan) ,  Chang Han-Jung (Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, No. 70, Lienhai Rd., Kaohsiung 804, Taiwan) ,  Chang Ping-Chien (Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, No. 70, Lienhai Rd., Kaohsiung 804, Taiwan) ,  Lin Jia-Jin (Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, No. 70, Lienhai Rd., Kaohsiung 804, Taiwan) ,  Kao Tzu-Chieh (Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, No. 70, Lienhai Rd., Kaohsiung 804, Taiwan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35  号： 3  ページ： 030601-030601-9  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大きな試料表面上への一様な周期構造の形成は,主にレーザビームに固有のガウス型強度分布のため,レーザ干渉リソグラフィ(LIL)において困難であった。本研究では,ウェハ規模のナノパターン形成のためにフラットトップな光場(20×20cm²の面積にわたり2.8%の強度変化)を発生させるために,Lloyd’s干渉計にて屈折式ビーム整形デバイスを利用した。報告された2インチにわたる1次元および2次元の周期的構造に関し,10^-2程度のフィルファクタの変動(ガウス型光場で露光した試料で得られる値より1桁低い)が得られた。提案するLILシステムでは,ビーム整形器に入射するレーザのスポットサイズを単に調整するだけで,ガウス型,超ガウス型,フラットトップ型から逆ガウス型まで徐々に光場を変換できる。提案するLILシステムは,周期的ナノ構造からもたらされる広範な応用に適用可能と思われる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *周期構造 ,  *リソグラフィー ,  Gaussビーム ,  ウエハ【IC】 ,  *ビーム成形 ,  屈折 ,  因子 ,  比率 ,  長さ
準シソーラス用語： *レーザ干渉リソグラフィー ,  *レーザビーム整形 ,  充満因子 ,  スポットサイズ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 構造形成 ,  干渉リソグラフィ ,  屈折 ,  ビーム整形 ,  採用