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J-GLOBAL ID：201702253470247084   整理番号：17A0462179

無彩色のTalbotリソグラフィにおけるパターン生成への対称性とデューティサイクルの影響

Influence of symmetry and duty cycles on the pattern generation in achromatic Talbot lithography

著者 (9件)： Yang Shumin (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Zhao Jun (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Wang Liansheng (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Zhu Fangyuan (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Xue Chaofan (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Liu Haigang (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Sang Huazheng (Department of Physics, East China University of Science and Technology, 130 Meilong Road, Shanghai 200237, China) ,  Wu Yanqing (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China) ,  Tai Renzhong (Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35  号： 2  ページ： 021601-021601-7  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無彩色のTalbotリソグラフィでは,パターン寸法とデューティサイクルとが制御可能で,ロバスト性とスループットが高い手法であることが認められてきた。本研究では,対称性とデューティサイクルのパターン生成への影響を詳細に検討した。正方格子の場合に比べ,六方ナノパターン生成では格子回転も空間周波数逓倍も観測されない。20nmのパターン寸法を伴う均一なパターン分布が,144nm周期と~50%のデューティサイクルのマスクにより正方および六方格子において得られた。より小さなデューティサイクルのマスクの露光については,不均一なドット寸法の分布が,正方格子において得られた。一方,より小さなデューティサイクルの六方格子マスクを用いて,10%のデューティサイクルの均一性の高い周期的六方ナノパターンが得られた。全ての実験結果はシミュレーション結果と一致する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *稼働率 ,  ロバスト性 ,  スループット ,  *パターン形成 ,  型 ,  *対称性 ,  正方形 ,  格子
準シソーラス用語： *Talbot効果 ,  *デューティサイクル ,  六方格子

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 彩色 ,  リソグラフィ ,  パターン生成 ,  対称性 ,  デューティサイクル