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J-GLOBAL ID：201702282030940205   整理番号：17A0399711

赤外収束加熱浮遊帯法により形成されたシリコン溶融帯に及ぼす成長パラメータの影響【Powered by NICT】

Effects of growth parameters on silicon molten zone formed by infrared convergent-heating floating zone method

著者 (4件)： Hossain Md. Mukter (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Watauchi Satoshi (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Nagao Masanori (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Tanaka Isao (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 459  ページ： 105-111  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 赤外収束加熱浮遊帯融解法を用いて作製したシリコン溶融帯の形状に及ぼす回転速度,フィラメントサイズ,反射鏡の形状,結晶直径の影響を調べた。結晶回転速度は溶融帯を形成するのに必要な飼料融液または結晶-融液界面の形状,結晶と供給の間のギャップ,ゾーン長さ,またはランプ出力に影響しなかった。より効率的な加熱は,より小さなフィラメントと楕円面鏡高い偏心を有するランプを用いて達成した。飼料と溶融ゾーンの結晶側の両方の凸性は,結晶直径の増加とともに減少した。しかし,必要なランプ出力,ギャップ,および領域の長さは,結晶直径の増加と共に増加した。溶融ゾーンの安定性は,結晶径を減少させると考えられた。結晶の直径により分割された最小溶融幅は溶融帯の安定性を記述するための良いパラメータであることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  楕円面鏡 ,  反射鏡 ,  界面 ,  凸形 ,  結晶 ,  浮遊融解 ,  *浮遊 ,  フィラメント ,  回転数 ,  融液 ,  結晶回転 ,  *生長パラメータ

著者キーワード (5件)： A1熱伝達 ,  A2フローティングゾーン法 ,  A2融液からの成長 ,  B1元素固体 ,  B2半導体シリコン

分類 (3件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  結晶成長技術・装置  (BK13020B) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (6件)： 赤外 ,  収束 ,  浮遊 ,  シリコン ,  溶融帯 ,  成長パラメータ