文献

J-GLOBAL ID：200902239459818922   整理番号：08A0243024

エチレンハイドレートに誘起されるラジカル種の熱安定性

著者 (5件)： 竹家啓 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  仲辻健太郎 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  菅原武 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  谷篤史 (大阪大 大学院理学研究科) ,  大垣一成 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： ESR応用計測  (ESR応用計測研究発表会講演要旨集)
巻： 23  ページ： 41  発行年： 2007年03月09日 
JST資料番号： L1155A  ISSN： 0918-6824  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： エチレンを包接したガスハイドレートに77Kでガンマ線を照射し,生成したラジカルをでESRで調べた。エチルラシカルと3-ブテニルラジカルが見出され,これらのラジカルが生成する反応機構を考察した。エチルラジカルは240K以上で減衰し,その際の活性化エネルギーは63.4±8.2kJ/molであった。これからラジカルがケージ内にトラップされ,結晶の分解と共にラジカルが減衰すると推定した。

シソーラス用語： *ガスハイドレート ,  アルケン ,  *ラジカル ,  *γ線照射 ,  活性化エネルギー ,  反応機構 ,  *ESR【磁気共鳴】
準シソーラス用語： エチルラシカル

分類 (1件)： 有機化合物のEPR  (BM07024U)

物質索引 (2件)： 3-ブテニルラジカル ,  エチレン

タイトルに関連する用語 (4件)： エチレン ,  ハイドレート ,  誘起 ,  熱安定性