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J-GLOBAL ID：200902242650819840   整理番号：03A0311026

Ni/Si(100)界面固相反応に与えるCの効果

著者 (7件)： 土屋義規 (名古屋大 大学院) ,  大久保和哉 (名古屋大 大学院) ,  中塚理 (名大 理工総研) ,  酒井朗 (名古屋大 大学院) ,  財満鎮明 (名大 先端研) ,  室田淳一 (東北大 通研) ,  安田幸夫 (名古屋大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 50th  号： 2  ページ： 900  発行年： 2003年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *固相反応 ,...

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分類 (2件)： 固-固界面  (CB12060M) ,  半導体-金属接触  (BM03084G)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ni ,  Si ,  界面 ,  固相反応