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J-GLOBAL ID：201202299562551363   整理番号：12A0255221

炭素の異方性プラズマCVD用のAr+H₂+C₇H₈放電の発光分光法

Optical emission spectroscopy of Ar+H₂+C₇H₈ discharges for anisotropic plasma CVD of carbon

著者 (14件)： URAKAWA Tatsuya (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  MATSUZAKI Hidehumi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  YAMASHITA Daisuke (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  UCHIDA Giichiro (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KOGA Kazunori (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KOGA Kazunori (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  SHIRATANI Masaharu (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SHIRATANI Masaharu (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  SETSUHARA Yuuichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SETSUHARA Yuuichi (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  SEKINE Makoto (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SEKINE Makoto (JST-CREST, Tokyo, JPN) ,  HORI Masaru (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI Masaru (JST-CREST, Tokyo, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 33rd  ページ： 123-124  発行年： 2011年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *発光分光法 ,  *炭素 ,  *異方性 ,  *プラズマCVD ,  アルゴン ,  水素 ,  *気体放電 ,  *プラズマパラメータ ,  ラジカル ,  流速 ,  放射強度 ,  バイアス ,  DLC膜 ,  疲れ強さ ,  硬度 ,  アルキルベンゼン
準シソーラス用語： 基板バイアス

分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： トルエン

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  異方性 ,  プラズマCVD ,  放電 ,  発光分光法