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J-GLOBAL ID：201402260287029482   整理番号：14A0584049

クラスレートハイドレートを反応場とした水素原子移動を伴うHOCO/DOCOラジカルの反応

著者 (5件)： 大島基 (大阪大 理) ,  谷篤史 (大阪大 理) ,  菅原武 (大阪大 基礎工) ,  大垣一成 (大阪大 基礎工) ,  北野勝久 (大阪大 工)
資料名： 電子スピンサイエンス学会年会講演要旨集  (SEST)
巻： 52nd  ページ： 92-93  発行年： 2013年10月24日 
JST資料番号： L0838B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *二酸化炭素 ,  *ガスハイドレート ,  γ線照射 ,  *ラジカル ,  *重水素化合物 ,  *ESR【磁気共鳴】 ,  *分解 ,  イオンクロマトグラフィー ,  Arrheniusの式 ,  温度依存性 ,  活性化エネルギー ,  水素 ,  引抜反応 ,  水素移動 ,  反応場 ,  脂肪族カルボン酸
準シソーラス用語： *ヒドロキシカルボニルラジカル

分類 (3件)： 原子とラジカルの反応  (CB06030C) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  その他の無機化合物のEPR  (BM07023D)

物質索引 (1件)： ギ酸

タイトルに関連する用語 (4件)： クラスレートハイドレート ,  反応場 ,  水素原子 ,  ラジカル