文献

J-GLOBAL ID：201502203970835871   整理番号：15A1047030

ナノホールレジストマスクを用いたNVセンタ配列の作製

著者 (13件)： 東又格 (早稲田大 理工) ,  小池悟大 (早稲田大 理工) ,  寺地徳之 (物質・材料研究機構) ,  小野田忍 (原子力機構) ,  稲葉優文 (早稲田大 理工) ,  BALASUBRAMANIAN Priyadharshini (ウルム大) ,  NAYDENOV Boris (ウルム大) ,  JELEZKO Fedor (ウルム大) ,  大島武 (原子力機構) ,  品田高宏 (東北大) ,  川原田洋 (早稲田大 理工) ,  磯谷順一 (筑波大) ,  谷井孝至 (早稲田大 理工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.15P-4F-22  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *空格子点 ,  *発光中心 ,  電子ビームリソグラフィー ,  *薄膜 ,  ナノ構造 ,  細孔 ,  電子顕微鏡観察 ,  レジスト ,  マスク ,  アレイ ,  ナノホール ,  *窒素空格子点 ,  *ダイヤモンド膜
準シソーラス用語： *ダイヤモンド薄膜 ,  レジストマスク

分類 (1件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (2件)： センタ ,  作製