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J-GLOBAL ID：201802217891452012   整理番号：18A1763712

ナノおよびミクロ相分離を用いたブロックコポリマーの構造作製

著者 (7件)： 伊藤祥穂 (山形大 大学院) ,  松永康平 (山形大 大学院) ,  松井淳 (山形大 理) ,  山本俊介 (東北大 多元物質科研) ,  三ツ石方也 (東北大 多元物質科研) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  藪浩 (東北大 WPI-AIMR)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2L16  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ミクロ相分離 ,  *ブロック共重合体 ,  ブロック共重合 ,  ポリエチレンオキシド ,  *ナノ構造 ,  リビングラジカル重合 ,  連鎖移動 ,  マクロ開始剤 ,  ポリアクリルアミド ,  スピンコーティング ,  高分子薄膜 ,  流延成形 ,  ラメラ ,  原子間力顕微鏡 ,  小角X線散乱 ,  すれすれ入射 ,  表面分析 ,  表面性状 ,  プラスチック被覆 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  可逆的付加-フラグメンテーション連鎖移動重合 ,  斜入射小角X線散乱 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： PEG【重合体】 ,  RAFT重合 ,  AFM【顕微鏡】 ,  GISAXS ,  シリコン基板

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  重合反応一般  (CG04010H)

物質索引 (2件)： N-ドデシルアクリルアミド ,  4-ビニルカテコール

タイトルに関連する用語 (3件)： ミクロ相分離 ,  ブロックコポリマー ,  作製