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J-GLOBAL ID：201802228932150981   整理番号：18A2090148

BiNiO₃系負熱膨張物質のサイト間電荷移動と局所構造

著者 (7件)： 西久保匠 (東工大 フロンティア材研) ,  酒井雄樹 (神奈川県産業技術総合研) ,  岡研吾 (中央大 理工) ,  綿貫徹 (量研) ,  町田晃彦 (量研) ,  溝川貴司 (早大 先進理工) ,  東正樹 (東工大 フロンティア材研)
資料名： 高圧討論会講演要旨集  (Abstracts. HPCJ)
巻： 59th  ページ： 36  発行年： 2018年11月13日 
JST資料番号： L1222A  ISSN： 0917-6373  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ニッケル酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  *鉄化合物 ,  置換 ,  *化学合成 ,  高温 ,  高圧 ,  *構造 ,  局所性 ,  構造解析 ,  X線回折 ,  表面構造 ,  表面分析 ,  焼結体 ,  X線光電子分光法 ,  硬X線 ,  電子状態 ,  熱機械分析 ,  *熱膨張係数 ,  *電荷移動 ,  ニッケル酸ビスマス ,  *局所構造 ,  硬X線光電子分光 ,  *高温高圧合成 ,  表面X線回折法 ,  *負の熱膨張係数 ,  物
準シソーラス用語： SXRD【分析】 ,  *負熱膨張係数

分類 (3件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  非金属のその他の熱的性質  (BL05040J)

タイトルに関連する用語 (5件)： BiNiO3 ,  負熱膨張 ,  物質 ,  電荷移動 ,  局所構造