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J-GLOBAL ID：202002257642819399   整理番号：20A0172609

フォトン照射によるPt/SiO_x界面固相反応

著者 (15件)： 佐藤和久 (阪大 超高圧電顕セ) ,  佐藤和久 (大阪大 工) ,  保田英洋 (阪大 超高圧電顕セ) ,  保田英洋 (大阪大 工) ,  市川修平 (阪大 超高圧電顕セ) ,  市川修平 (大阪大 工) ,  今村真幸 (佐賀大) ,  高橋和敏 (佐賀大) ,  波多聰 (九大) ,  波多聰 (九大 超顕微解析研究セ) ,  松村晶 (九大 工) ,  松村晶 (九大 超顕微解析研究セ) ,  穴田智史 (JFCC) ,  LEE J.-G. (KIMS) ,  森博太郎 (阪大 超高圧電顕セ)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 74  号： 2  ページ： ROMBUNNO.13aB22-4  発行年： 2019年09月24日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 高エネルギー粒子照射による材料改質は、構成原子の弾き出しによる原子移動、ならびに、電子励起により生じる固体内プロセスによって行われる。固体の照射損傷は弾き出しに起因し、これまで多くの研究成果が蓄積されている。一方、電子励起は、価電子励起と内...【本文一部表示】

シソーラス用語： *白金 ,  *酸化ケイ素 ,  不均一系反応 ,  *固相反応 ,  非晶質 ,  シンクロトロン放射 ,  電子回折 ,  スパッタリング ,  真空蒸着 ,  ケイ化物 ,  白金化合物 ,  電子励起 ,  価電子 ,  内殻空孔 ,  Auger効果 ,  界面反応
準シソーラス用語： DCスパッタリング

分類 (3件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトン ,  Pt ,  界面 ,  固相反応