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J-GLOBAL ID:202202217990244364   整理番号:22A2330441

プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー 平坦・平滑化に関する研究(第1報)

著者 (5件):
資料名:
巻: 2022  ページ: ROMBUNNO.D18  発行年: 2022年08月22日 
JST資料番号: L0894B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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近年,ダイヤモンド基板の研磨において機械研磨法の代替手法の開発が進んでおり,我々はプラズマを援用した研磨法を開発している.また,半導体デバイスの放熱材料として多結晶ダイヤモンドが注目されている.本報では多結晶ダイヤモンド基板に対してプラズマ援用研磨を行い,研磨後の表面性状をSEMおよびSWLIにより観察し,結晶粒のファセットが平坦化され,評価領域84μm角における表面粗さSaが630.7nmから3.4nmに低減されたことを報告する.(著者抄録)
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