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J-GLOBAL ID：202402259361388388   整理番号：24A1600215

酸化ホウ素層と五核クラスターの複合材料の酸化還元特性

Redox Properties of a Composite Material of Boron-oxide Layers and a Pentanuclear Cluster

著者 (9件)： DE LA TOUR Nicole Sallier (Osaka Univ.) ,  DE LA TOUR Nicole Sallier (Heidelberg Univ.) ,  IMAI Maho (Osaka Univ.) ,  KAMBE Tetsuya (Osaka Univ.) ,  SAGA Yutaka (Osaka Univ.) ,  KONDO Mio (Osaka Univ.) ,  KONDO Mio (Tokyo Inst. of Technol.) ,  KONDO Mio (JST-PRESTO) ,  MASAOKA Shigeyuki (Osaka Univ.)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(Web)  (日本化学会春季年会(Web))
巻： 104th  ページ： ROMBUNNO.P1-3pm-13 (WEB ONLY)  発行年： 2024年 
JST資料番号： U2384A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化ホウ素 ,  *多核錯体 ,  *クラスタ分子 ,  *酸化還元反応 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  触媒活性 ,  *鉄錯体 ,  液晶 ,  *五核錯体 ,  *酸化還元特性

分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

物質索引 (1件)： 3,5-ビス(2-ピリジル)-1H-ピラゾール

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化ホウ素 ,  核 ,  クラスター ,  複合材料 ,  酸化還元特性