文献
J-GLOBAL ID：200902106299192223
整理番号：94A0366294
イオンビームスパッタリング法によるa-Si:H/a-SiC:H超格子薄膜の作製とその評価
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著者 (8件)：
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資料名：
巻：
1994
号：
Spring 1
ページ：
321-322
発行年：
1994年03月
JST資料番号：
Y0914A
資料種別：
会議録 (C)
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
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