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J-GLOBAL ID：200902210480956229   整理番号：08A0169424

化学増幅型電子線レジストにおける酸発生効率の酸発生剤濃度依存性の研究

著者 (6件)： 古澤孝弘 (大阪大 産科研) ,  岡本一将 (大阪大 産科研) ,  佐伯昭紀 (大阪大 産科研) ,  田川精一 (大阪大 産科研) ,  甲斐敏之 (JSR) ,  下川努 (JSR)
資料名： 放射線化学討論会講演要旨集  (Program and Abstract. Annual Meetings of the Japanese Society of Radiation Chemistry)
巻： 50th  ページ： 13-14  発行年： 2007年10月10日 
JST資料番号： L0690A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： 化学増幅電子線レジスト ,...

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分類 (3件)： 放射線高分子化学  (CG03050S) ,  放射線化学反応  (CB09020M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： トリフェニルスルホニウム・トリフラート

タイトルに関連する用語 (7件)： 化学 ,  増幅 ,  電子線レジスト ,  酸 ,  酸発生剤 ,  濃度依存性 ,  研究