薄膜ガスセンサ

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：山口巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-063223
公開番号（公開出願番号）：特開2003-262599
出願日： 2002年03月08日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】優れたH2選択性を長期にわたり維持し得る薄膜ガスセンサの提供。【解決手段】薄膜状の支持膜の外周部または両端部をSi基板により支持し、外周部または両端部が厚く中央部が薄く形成されたダイアフラム様の支持基板1,2上に薄膜のヒータ3を形成し、この薄膜のヒータ3を絶縁膜4で覆い、その上にガス感知膜用の電極5を形成し、さらに半導体薄膜からなるガス感知膜6を形成した後、その最表面に触媒フィルタ層7を形成した薄膜ガスセンサにおける触媒フィルタ層7を、ガス感知膜6を被覆するように多孔質アルミナ層を形成後、貴金属触媒を含浸,担持させて形成することで、従来のものより活性が高く、長期安定性に優れた構成とする。

請求項（抜粋）：

薄膜状の支持膜の外周または両端部をSi基板により支持し、外周部または両端部が厚く、中央部が薄く形成されたダイアフラム様の支持基板上に薄膜のヒータを形成し、この薄膜のヒータを電気絶縁膜で覆い、その上にガス感知膜用の電極を形成し、さらに半導体薄膜によりガス感知膜を形成した後、その最表面にガス感知膜を完全に被覆するように形成した触媒担持多孔質アルミナからなる触媒フィルタ層を有する薄膜ガスセンサにおいて、前記触媒フィルタ層を、ガス感知膜を被覆する多孔質アルミナからなるフィルタ層を形成する第1の工程と、前記フィルタ層へ触媒化合物を含む溶液を含浸し、熱分解することにより、多孔質アルミナ層に触媒を担持した触媒フィルタ層を形成する第2の工程とにより形成することを特徴とする薄膜ガスセンサ。

IPC (2件)：

G01N 27/12 , G08B 21/16

FI (5件)：

G01N 27/12 B , G01N 27/12 A , G01N 27/12 C , G01N 27/12 M , G08B 21/16

Fターム (36件)：

2G046AA01 , 2G046AA02 , 2G046AA11 , 2G046AA19 , 2G046AA21 , 2G046AA24 , 2G046BA01 , 2G046BA04 , 2G046BB02 , 2G046BB06 , 2G046BC04 , 2G046BD02 , 2G046BD05 , 2G046BD06 , 2G046BE01 , 2G046BE07 , 2G046EA02 , 2G046EA07 , 2G046EA09 , 2G046EA10 , 2G046EA11 , 2G046EA16 , 2G046FB01 , 2G046FC01 , 2G046FC02 , 2G046FE03 , 2G046FE29 , 2G046FE31 , 2G046FE39 , 2G046FE46 , 5C086AA02 , 5C086CA04 , 5C086CB12 , 5C086DA04 , 5C086EA02 , 5C086EA08

引用特許：

審査官引用 (7件)

ガスセンサの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-141434 出願人：フイガロ技研株式会社
ガスセンサの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-342950 出願人：富士電機株式会社
特開平4-186148

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