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J-GLOBAL ID：201102207726713085   整理番号：11A0950526

高温超伝導体薄膜中の遮蔽電流密度の高性能解析

High Performance Analysis of Shielding Current Density in High Temperature Superconducting Thin Film

著者 (3件)： KAMITANI Atsushi (Yamagata Univ., Yamagata 992-8510, JPN) ,  TAKAYAMA Teruou (Yamagata Univ., Yamagata 992-8510, JPN) ,  NAKAMURA Hiroaki (National Inst. of Fusion Sci., Gifu 509-5292, JPN)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 5  ページ： S2112-S2112 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高温超伝導体薄膜中の遮蔽電流密度を計算するための高性能法を提案した。空間的に離散化したのち,遮蔽電流密度の初期境界値問題を強い非線形性を有する一次の常微分方程式のシステムに還元した。しかし,適応ステップ-サイズ制御アルゴリズムを組み入れたRunge-Kutta法を用いてもこのシステムを常に解くことはできなかった。アルゴリズムのオーバフローを抑制するため,J-E構成関係を改変し解がオリジナルな構成関係を満たす方法を提案した。提案した方法に基づいて遮蔽電流密度を解析する数値コードを開発し,このコードを用いて誘導法を研究した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 高温超伝導体 ,  *超伝導薄膜 ,  *電流密度 ,  常微分方程式 ,  Runge-Kutta法 ,  構成方程式 ,  非線形方程式 ,  Newton-Raphson法 ,  Euler方程式 ,  境界値問題
準シソーラス用語： Newton法 ,  遮蔽電流 ,  *遮蔽電流密度

分類 (1件)： 超伝導材料  (BM04041W)

引用文献 (7件)：

• [1] A. Kamitani and S. Ohshima, IEICE Trans. Electron. E82-C, 766 (1999).
• [2] A. Kamitani, S. Ikuno and T. Yokono, IEICE Trans. Electron. E87-C, 101 (2004).
• [3] A. Kamitani, T. Takayama and S. Ikuno, IEEE. Trans. Magn. 44, 926 (2008).
• [4] J. H. Claassen, M. E. Reeves and R. J. Soulen, Jr., Rev. Sci. Instrum. 62, 996 (1991).
• [5] Y. Mawatari, H. Yamasaki and Y. Nakagawa, Appl. Phys. Lett. 81, 2424 (2002).

タイトルに関連する用語 (4件)： 超伝導体薄膜 ,  遮蔽 ,  電流密度 ,  性能解析