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J-GLOBAL ID：201102278992032721   整理番号：11A0950527

高温超伝導薄膜のJ_C分布を測定するための無接触法の数値シミュレーション

Numerical Simulation of Contactless Methods for Measuring j_C Distribution of High Temperature Superconducting Thin Film

著者 (3件)： TAKAYAMA Teruou (Yamagata Univ., Yamagata 992-8510, JPN) ,  KAMITANI Atsushi (Yamagata Univ., Yamagata 992-8510, JPN) ,  NAKAMURA Hiroaki (National Inst. for Fusion Sci., Gifu 509-5292, JPN)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 5  ページ： S2113-S2113 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高温超伝導体(HTS)薄膜中の臨界電流密度を測定するための誘導法および永久磁石法を数値的に研究した。この目的のためHTSサンプル中での遮蔽電流密度の時間進展を解析するための数値コードを開発した。誘導法の場合薄膜端付近の臨界電流密度が正確に評価されないことを計算結果が示した。他方永久磁石法では,磁石を薄膜の端付近においても最大斥力が臨界電流密度にほぼ比例することを見出した。このことは薄膜端付近の臨界電流密度をその比例定数から推定できることを意味した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 高温超伝導体 ,  *超伝導薄膜 ,  *臨界電流密度 ,  *電流測定 ,  時間発展 ,  斥力 ,  電磁力 ,  電流分布
準シソーラス用語： 遮蔽電流密度 ,  数値シミュレーション ,  電流密度分布

分類 (1件)： 超伝導材料  (BM04041W)

引用文献 (8件)：

• [1] J. H. Claassen, M. E. Reeves and R. J. Soulen, Jr., Rev. Sci. Instrum. 62, 996 (1991).
• [2] Y. Mawatari, H. Yamasaki and Y. Nakagawa, Appl. Phys. Lett. 81, 2424 (2002).
• [3] S. Ohshima, K. Takeishi, A. Saito, M. Mukaida, Y. Takano, T. Nakamura, I. Suzuki and M. Yokoo, IEEE Trans. Appl. Supercond. 15, 2911 (2005).
• [4] A. Saito, K. Takeishi, Y. Takano, T. Nakamura, M. Yokoo, M. Mukaida, S. Hirano and S. Ohshima, Physica C 426, 1122 (2005).
• [5] S. Ikuno, T. Takayama, A. Kamitani, K. Takeishi, A. Saito and S. Ohshima, IEEE Trans. Appl. Supercond. 19, 3591 (2009).

タイトルに関連する用語 (3件)： 超伝導薄膜 ,  分布 ,  数値シミュレーション