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J-GLOBAL ID：201202216516193743   整理番号：12A1290895

もし「光ロスが発生しない光学材料」が実用化されたら世の中はどう変わるのか?

著者 (2件)： 八井崇 (東大) ,  大津元一 (東大)
資料名： 月刊Material Stage  (マテリアルステージ)
巻： 12  号： 5  ページ： 1-3  発行年： 2012年08月10日 
JST資料番号： L5969A  ISSN： 1346-3926  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光学材料における光ロスの原因となる散乱を低減するため,筆者らの開発した近接場光エッチングによる,新しい表面平坦化技術について解説した。基板表面の局所的な凸部に近接場光が発生すると,フォノン援用過程でエネルギー上方変換された光(短波長の光)によって,エッチングガス分子が分解し,ラジカルが発生する。これが基板材料と反応し,凸部のみがエッチングされ,基盤が平坦化される。この方法により,従来の機械化学研磨では到達不可能な超平坦面が得られる。その結果,光の利用効率が向上し,ディスプレイや照明の省エネルギー化が可能となる。

シソーラス用語： *改変 ,  *伝送損失 ,  *近接場 ,  *フォトエッチング ,  *ラジカル ,  周波数逓倍
準シソーラス用語： 表面平坦化 ,  *平坦化 ,  光学損失 ,  アップコンバージョン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• 1) M. Ohtsu, T. Kawazoe, T. Yatsui, and M. Naruse, IEEE J. Select. Top. Quant. Electron., 14, 1404 (2008) [Invited Paper]
• 2) Y. Tanaka and K. Kobayashi: Physica E, 40, 297 (2007)
• 3) T. Kawazoe, H. Fujiwara, K. Kobayashi, and M. Ohtsu, IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, 15, 1380 (2009)
• 4) T. Yatsui, K. Hirata, W. Nomura, Y. Tabata, and M. Ohtsu, Appl. Phys. B: Lasers and Optics, 93, 55 (2008)
• 5) T. Yatsui, K. Hirata, Y. Tabata, Y. Miyake, Y. Akita, M. Yoshimoto, W. Nomura, T. Kawazoe, M. Naruse, and M. Ohtsu: Appl. Phys. B-Lasers and Optics, 103, 527 (2011)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光ロス ,  光学材料