特許
J-GLOBAL ID：201303081502993680
グラフェンの製造方法、基板上に製造されたグラフェン、ならびに、基板上グラフェン
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
木村 満
, 石井 裕一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-525791
特許番号：特許第5152945号
出願日： 2012年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 金属に炭素が固溶した固溶体が形成可能な固溶温度への加熱を行って、当該固溶体からなる固溶体層を基板上に形成する形成工程、
前記固溶温度への加熱を維持したまま前記固溶体層から前記金属を除去する除去工程
を備えることを特徴とするグラフェンの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
引用文献：
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