特許
J-GLOBAL ID:201403006066248333

分析用基板及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  鈴木 壯兵衞
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-074787
公開番号(公開出願番号):特開2011-208993
特許番号:特許第5494954号
出願日: 2010年03月29日
公開日(公表日): 2011年10月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 金属が付着した固相化微粒子が基板上に形成された表面増強効果を有する分析用基板であって、前記固相化微粒子が形成された領域は、光学的分析方法の種類に対応して、前記金属の種類が異なる領域の同一の組み合わせが複数形成された第1の範囲、前記金属の付着量が異なる領域の同一の組み合わせが複数形成された第2の範囲、前記金属の種類及び前記金属の付着量が異なる領域の同一の組み合わせが複数形成された第3の範囲のいずれか1つの範囲を少なくとも含むことを特徴とする分析用基板。
IPC (2件):
G01N 21/65 ( 200 6.01) ,  G01N 21/64 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01N 21/65 ,  G01N 21/64 G
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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