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J-GLOBAL ID:202002252977218454   整理番号:20A2237733

Na-flux-GaN上に育成したHVPE-GaNバルク単結晶における貫通転位の形態と漏れ電流特性の評価

Investigation of morphology and current leakage properties for individual threading dislocations in a HVPE-GaN bulk single crystal grown on a Na-flux-GaN crystal
著者 (6件):
資料名:
巻: 67th  ページ: ROMBUNNO.13p-A302-4  発行年: 2020年02月28日 
JST資料番号: Y0054B  ISSN: 2436-7613  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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【背景】高い品質と信頼性を有するGaN基板結晶及びデバイスの実現には,貫通転位密度の低減だけでなく,転位で生じる電流漏れ現象機構の解明が強く求められる.先行研究では,電流漏れ現象は転位種と関連することが示唆されているが,決定的な要因は未だ明...【本文一部表示】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  半導体の結晶成長 

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