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J-GLOBAL ID：202102278897933796   整理番号：21A0555119

完全結晶基板上に成長したFe₃O₄極薄膜金属-絶縁体相転移特性

Metal-insulator phase transition in ultra-thin Fe₃O₄ film grown on MgO substrate flattened by catalyst-referred etching

著者 (6件)： 大坂藍 (大阪大学産業科学研究所) ,  服部梓 (大阪大学産業科学研究所) ,  田中秀和 (大阪大学産業科学研究所) ,  藤大雪 (大阪大学大学院工学研究科) ,  山内和人 (大阪大学大学院工学研究科) ,  佐野泰久 (大阪大学大学院工学研究科)
資料名： 日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)
巻： 2020  ページ： 236(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U1883A  ISSN： 2434-8589  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁鉄鉱,Fe_3O_4は,その優れた物理的性質のために広く研究されている遷移金属酸化物の1つである。本研究では,MgO(001)基板を調製し,その表面を触媒選択エッチング(CARE)と呼ばれる化学研磨法により原子的に平滑化し,50nmの厚さのFe_3O_4薄膜を成長させた。CARE処理MgO上のFe_3O_4膜は,5.8の抵抗の最大相対変化を伴う顕著な金属-絶縁体相転移を示し,これは,元のMgO上の薄膜より約2倍大きかった。これは,成長基板表面の原子的に平坦で高結晶性の表面の効力を示し,それは薄膜に対するより高い物理的性質の原因である。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶 ,  基板 ,  *酸化鉄 ,  *超薄膜 ,  *金属-絶縁体転移 ,  パルスレーザ蒸着 ,  変化 ,  温度依存性 ,  酸化マグネシウム ,  化学研磨
準シソーラス用語： 完全結晶 ,  *四酸化三鉄 ,  *単結晶基板 ,  抵抗変化

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (5件)： 完全結晶 ,  成長 ,  薄膜金属 ,  絶縁体 ,  相転移