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J-GLOBAL ID：201702219253767309   Reference number：17A0289825

Electron Beam Mask Writer EBM-9500 for Logic 7nm Node Generation

ロジック7nmノード時代用の電子ビームマスク描画装置EBM-9500

Author (13)： MATSUI Hideki (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  KAMIKUBO Takashi (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  NAKAHASHI Satoshi (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  NOMURA Haruyuki (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  NAKAYAMADA Noriaki (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  SUGANUMA Mizuna (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  KATO Yasuo (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  YASHIMA Jun (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  KATSAP Victor (NuFlare Technol. Inc., NY, USA) ,  SAITO Kenichi (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  KOBAYASHI Ryoei (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  MIYAMOTO Nobuo (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN) ,  OGASAWARA Munehiro (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9985  Page： 998508.1-998508.10  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electron beam lithography ,  *equipment ,  *circuit pattern generation ,  semiconductor process ,  homogeneity ,  chemically amplified resist ,  electron gun ,  electron beam ,  current density ,  thermal effect
Semi thesaurus term： CD uniformity ,  critical dimension ,  *マスク描画装置 ,  writing unite

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： ロジック ,  ノード ,  電子ビーム ,  マスク ,  描画装置