研究者

J-GLOBAL ID：200901033902200685 更新日: 2024年04月17日

安武潔

ヤスタケキヨシ | Yasutake Kiyoshi

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (4件)：加工学、生産工学 , 薄膜、表面界面物性 , 結晶工学 , 応用物性

研究キーワード (9件)：表面・界面物性制御 , 半導体材料プロセス , 機能性薄膜 , crystal defects , surface and interface , atomically controlled processes , functional materials , thin films , semiconductor materials

競争的資金等の研究課題 (5件)：

表面原子制御プロセス
表面・界面・結晶欠陥の物性解明と制御
半導体薄膜の作製プロセスと評価
Low Temperature Growth of Functional Material Thin Films with High Growth Rate
Fabrication and Characterization of Semiconductor Thin Films

MISC (210件)：

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特許 (4件)：

Dry Etching Method and Apparatus
原子線分光装置
ドライエッチング方法および装置
Dry Etching Method and Apparatus

書籍 (3件)：

究極の物づくり原子を操る(森勇藏編) 第二章機能する薄膜を作る
大阪大学出版会 2002
MINORITY CARRIER DIFFUSION LENGTH AND DEFECT LEVELS IN PLASTICALLY DEFORMED SILICON CRYSTALS
Defect Control in Semiconductors II 1990
MINORITY CARRIER DIFFUSION LENGTH AND DEFECT LEVELS IN PLASTICALLY DEFORMED SILICON CRYSTALS
Defect Control in Semiconductors II 1990

Works (4件)：

グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
2008 -
Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
2008 -
ガラス基板表面の核形成点制御による大粒径多結晶薄膜形成法の開発
2004 -
原子論的生産技術の創出拠点
2004 -

学位 (1件)：

工学博士

委員歴 (1件)：

2004 - 精密工学会技術賞審査委員

受賞 (2件)：

2004 - 精密工学会沼田記念論文賞
1994 - 精密工学会関西支部講演論文賞

所属学会 (3件)：

金属学会 , 応用物理学会 , 精密工学会

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