小林信一

コバヤシシンイチ | Kobayashi Shinichi

所属機関・部署：
職名：教授
ホームページURL (1件)： http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html

研究分野 (3件)：電気電子材料工学 , 結晶工学 , 応用物性

研究キーワード (4件)：半導体の基礎物性 , 半導体プラズマプロセス , Physics of Semiconductors , Plasma Processing of Semiconductors

競争的資金等の研究課題 (5件)：

2000 - 2002 高清浄ECRプラズマCVDによる高機能性ナノクリスタルGe膜の作製
1998 - 1999 次世代超LSI用材料Si/Ge薄膜の成長に関する研究
1997 - 1998 次世代超LSI材料SiGeを拡散源としたSi中への不純物拡散の研究
高品質アモルファス及び微結晶Ge膜の成膜と膜質評価
Deposition and Characterization of High-quality Amorphous and microcrystalline Ge Films

論文 (21件)：

Yoji Yasuda, Shin-ichi Kobayashi, Yoichi Hoshi. Photocatalytic properties of annealed TiO2 films with controlled structure fabricated using oxygen-ion-assisted reactive evaporation with glancing angle deposition technique. AIP Advances. 2022. 12. 1
Yoji Yasuda, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yoichi Hoshi. Top-emission organic light emitting diode with indium tin oxide top-electrode films deposited by a low-damage facing-target type sputtering method. Thin Solid Films. 2020. 698. 137868-137868
Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, Hao Lei. Reactive sputter deposition of WO3 films by using two deposition methods. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2019. 37. 3. 031514-031514
Y Sawada, Y Hashimoto, Y Hoshi, T Uchida, S Kobayashi, L Sun, B Yue. Crystal Orientation and Electrical Properties of Tin Oxide Transparent Conducting Films Deposited on Rutile Surface. IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. 2017. 250. 012021-012021
安田洋司, 星陽一, 小林信一, 内田孝幸. 有機EL素子の上部電極作製用スパッタ成膜プロセスの開発. 表面科学学術講演会要旨集. 2017. 37. 0. 90-90

MISC (1件)：

Works (2件)：

学歴 (3件)：

学位 (1件)：

所属学会 (2件)：

Materials Research Society , 応用物理学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

小林 信一