研究者
J-GLOBAL ID：200901090270386030   更新日: 2023年07月04日

奥村 治樹

オクムラ ハルキ | Okumura Haruki
所属機関・部署：
ジャパン・リサーチ・ラボ

ジャパン・リサーチ・ラボ について


職名： 代表
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：
  • 大阪産業大学  非常勤講師
研究分野 (10件)： 構造材料、機能材料 ,  複合材料、界面 ,  薄膜、表面界面物性 ,  高分子材料 ,  有機機能材料 ,  電子デバイス、電子機器 ,  機能物性化学 ,  高分子化学 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学
研究キーワード (10件)： ハイブリッド材料 ,  リソグラフィー ,  高分子 ,  界面 ,  表面 ,  Hybrid material ,  Polymer ,  Lithography ,  Interface ,  Surface
競争的資金等の研究課題 (12件)：
  • 2011 - 2012 モナザイト鉱石からのレアアース精製技術及び放射性廃棄物処理技術の調査・研究
  • 2010 - 2011 マイクロ波利用金属ナノ粒子の合成プロセス
  • 2010 - 金属ナノ粒子の合成と応用に関する研究
  • 2009 - ハイドロキシアパタイト複合材料に関する研究
  • 2006 - 2008 分子レベル有機無機ハイブリッド材料の研究開発
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論文 (10件)：
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MISC (8件)：
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特許 (10件)：
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書籍 (17件)：
  • シランカップリング剤の使いこなしノウハウ集
    2016
  • 電子機器・部品における故障・発火原因と対策技術
    2014
  • 粘着剤、接着剤の最適設計と適用技術
    2014
  • 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
    2013
  • コンポジット材料の混錬・コンパウンド技術と分散・界面制御
    2013
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講演・口頭発表等 (24件)：
  • マイクロ波加熱を用いたニッケルナノ粒子連続合成
    (第5 回日本電磁波エネルギー応用学会シンポジウム 2011)
  • Depth Profile Analysis of Plasma-cured Multi Layer Resist
    (The International Symposium 2006 Materials &Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology 2006)
  • Depth Profile Analysis of Plasma-cured Multi Layer Resist
    (The International Symposium 2006 Materials &Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology 2006)
  • 表面界面の最新評価技術
    (粘着研究会 2005)
  • 精密斜め切削法による液浸プロセスにおける溶出挙動の解析
    (第55回応用物理学関係連合講演会 2005)
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学歴 (2件)：
  • - 2004 広島大学
  • - 1993 京都工芸繊維大学
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (広島大学)
経歴 (14件)：
  • 2020 - 現在 接着学会
  • 2015 - 現在 ジャパン・リサーチ・ラボ
  • 2013 - 2015 マイクロ波化学株式会社
  • 2009 - 2013 岩谷産業
  • 2006 - 2009 パナソニック電工
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委員歴 (2件)：
  • 2009 - 理科教育特別講師
  • 1998 - 2000 年 UC標準化委員会装置部会委員
受賞 (1件)：
  • 1999 - Poster Award of International Symposium on Two-Dimensional Correlation Spectroscopy
所属学会 (1件)：
日本接着学会
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