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J-GLOBAL ID：200902048776616065   整理番号：90A0919815

合成石英ガラスのγ誘起常磁性欠陥発生に対するふっ素ドープ効果

F-doping effect on γ-ray induced defects generation in synthetic silica glasses.

著者 (7件)： 荒井和雄 (電総研) ,  野中秀彦 (電総研) ,  今井宏明 (日本酸素) ,  磯谷順一 (図書館情報大) ,  細谷秀雄 (名古屋工大) ,  阿部良弘 (名古屋工大) ,  今川宏 (東洋大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 51st  号： 2  ページ： 708  発行年： 1990年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 石英ガラス ,  誘起 ,  常磁性 ,  欠陥 ,  ふっ素 ,  ドープ