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J-GLOBAL ID：200902204247906017   整理番号：07A1013760

放射光XPSによるGe₃N₄膜の化学結合状態及び熱脱離過程のその場観察

著者 (8件)： 細井卓治 (大阪大 大学院) ,  朽木克博 (大阪大 大学院) ,  岡本学 (大阪大 大学院) ,  原田真 (大阪大 大学院) ,  吉越章隆 (日本原子力研究開発機構) ,  寺岡有殿 (日本原子力研究開発機構) ,  志村考功 (大阪大 大学院) ,  渡部平司 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 2  ページ： 824  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲルマニウム化合物 ,...
準シソーラス用語： *プラズマ窒化

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  XPS ,  化学 ,  結合状態 ,  熱脱離 ,  過程 ,  その場観察