特許
J-GLOBAL ID:200903053906507970

ポリマー基板マイクロ電極と電極内蔵ポリマー基板マイクロチャンネルチップの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-142434
公開番号(公開出願番号):特開2001-324471
出願日: 2000年05月15日
公開日(公表日): 2001年11月22日
要約:
【要約】【課題】 安価、かつ簡便に、マイクロ電極およびマイクロ電極を内蔵するマイクロチャンネルチップを製造する方法と、これらの方法によって得られる高性能のマイクロ電極および電極内蔵マイクロチャンネルチップを提供する。【解決手段】 ポリマー基板に金属を蒸着し、熱処理することにより得られる金属層上にフォトレジストを塗布した後、リソグラフィーを行い、金属をエッチングすることを特徴とするポリマー基板マイクロ電極とする。
請求項(抜粋):
ポリマー基板に金属を蒸着し、熱処理することにより得られる金属層上にフォトレジストを塗布した後、リソグラフィーを行い、金属をエッチングすることを特徴とするポリマー基板マイクロ電極の製造方法。
IPC (2件):
G01N 27/416 ,  G01N 31/20
FI (2件):
G01N 31/20 ,  G01N 27/46 M
Fターム (3件):
2G042HA02 ,  2G042HA03 ,  2G042HA07
引用特許:
出願人引用 (5件)
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