文献

J-GLOBAL ID：201702218857570932   整理番号：17A0216952

硬磁性膜作製技術の最前線 II レーザ蒸着法による硬磁性膜の作製

Preparation of Hard Magnetic Films Using Laser Vacuum Deposition

著者 (7件)： 中野正基 (長崎大 大学院工学研究科) ,  山下昂洋 (長崎大 大学院工学研究科) ,  柳井武志 (長崎大 大学院工学研究科) ,  板倉賢 (九大 大学院総合理工学研究院) ,  藤原良元 (東京工大) ,  進士忠彦 (東京工大) ,  福永博俊 (長崎大 大学院工学研究科)
資料名： まぐね  (Magnetics Japan)
巻： 12  号： 1  ページ： 26-30  発行年： 2017年02月01日 
JST資料番号： L5842A  ISSN： 1880-7208  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 永久磁石として磁性膜を用いるには,10μmを十分に超える厚さまで膜を成長させる必要がある。そこでここでは成膜の速いNd-YAGレーザを用いてSi基板およびガラス基板上にNd-Fe-B系磁石を蒸着した。こうして作った膜に対し剥離や破壊などを調べるなど,Micro-ELectro-Mechanical-Systems(MEMS)に向けての基礎的な研究を行った。

シソーラス用語： *永久磁石材料 ,  *レーザ蒸着 ,  微細加工 ,  剥離 ,  破壊 ,  スパッタリング ,  硬磁性材料 ,  *磁性体 ,  *膜 ,  *MEMS ,  Nd-YAGレーザ ,  *磁性膜

分類 (4件)： 電磁石  (NA05080G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (32件)：

• M. Nakano, T. Yanail, F. Yamashita, and H. Fukunaga: J. Japan Inst. Metals, 76, 59 (2012).
• M. Nakano, T. Yanail, Y. Fujii, N. Matsumoto, and H. Fukunaga: まぐね/Magnetics Japan, 9, 211 (2014).
• G. Rieger, J.Wecker, W. Rodewald, Sattler, F.-W. Bach, T. Duda and W. Unterberg: J. Appl. Phys. 87, 5329 (2000).
• S. Sugimoto, T. Maeda, R. Kobayashi, J. Akedo, M. Ledebev, and K. Inomata: IEEE Trans. Magn., 39, 2986 (2003).
• J. Akedo and S. Sugimoto: J. Magn. Soc. Jpn., 29, 20(2005).

タイトルに関連する用語 (3件)： 硬磁性 ,  作製 ,  レーザ蒸着