特許
J-GLOBAL ID:201103034193421151
単結晶窒化ケイ素ナノシートとその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (11件):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
, 神田 藤博
, 田中 英夫
, 細川 伸哉
, 深澤 憲広
, 平山 晃二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-352353
公開番号(公開出願番号):特開2006-160548
特許番号:特許第4572382号
出願日: 2004年12月06日
公開日(公表日): 2006年06月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 出発原料としてケイ素粉末を用い、窒素雰囲気中で非密封状態の容器中に入れ、1300°C〜1400°C(ケイ素粉末の溶融点以下)の温度及び電気炉内断面積が25cm2あたり0.5l/min以上の窒素ガス流量で、30時間反応させて、1μm×1μm以上で厚みが20nm以下の単結晶窒化ケイ素ナノシートを製造する方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (12件)
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特開昭63-151603
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特開昭61-266305
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特開平1-201012
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審査官引用 (6件)
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特開昭63-151603
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特開昭61-266305
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特開平1-201012
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