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J-GLOBAL ID：201402237849843402   整理番号：14A0877935

溶液成長法により作製したn-ZnO/p-CuOヘテロ接合の電気的特性の改善-中間層挿入と熱処理-

Improvement of Electrical Properties of n-ZnO/p-CuO Heterojunctions Prepared by Chemical Bath Deposition-Insertion of Intermediate Layer and Thermal Annealing-

著者 (4件)： 寺迫智昭 (愛媛大) ,  村上聡宏 (愛媛大) ,  兵頭篤 (愛媛大 工) ,  白方祥 (愛媛大)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 114  号： 95(CPM2014 28-42)  ページ： 61-66  発行年： 2014年06月13日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 溶液成長(CBD)法によるn-ZnO/p-CuOヘテロ接合形成時にディップコーティング法ZnO(Dip-coating ZnO)層を挿入することでリーク電流が抑制された。n-ZnO/Dip-coating ZnO/p-CuOヘテロ接合のJ-V特性から求めた閾値電圧(V_th)と理想因子(n)及びC-V特性より求めた拡散電位(V_bi)はCuO層ポストアニーリング温度(T_A)によって変化し,T_A=250°C付近で最小であった。一方,I_F/I_R(I_Fは順方向電流,I_Rは逆方向電流)はT_A=225°C以上で低いことから,V_th及びV_biの低下はヘテロ界面に形成された界面準位を介したトンネル電流によるものと考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *溶液成長 ,  *酸化亜鉛 ,  *酸化銅 ,  *PN接合 ,  *ヘテロ接合 ,  浸漬塗装 ,  漏れ電流 ,  電流密度 ,  *電流電圧特性 ,  電圧 ,  *容量電圧特性 ,  液間電位 ,  *焼なまし ,  表面準位 ,  電流 ,  温度依存性 ,  整流
準シソーラス用語： 閾値電圧 ,  拡散電位 ,  ポストアニーリング ,  トンネル電流

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

引用文献 (15件)：

• T. Minami, “New n-type transparent conducting oxides”, MRS Bulletin, 25, 8, pp.38-44, Aug. 2000.
• B. K. Meyer, A. Polity, D. Reppin, M. Becker, P. Hering, P. J. Klar, Th. Sander, C. Reindl, J. Benz, M. Eickhoff, C. Heiliger, M. Heinemann, J. Bläing, A. Krost, C. Shokovets, C. Müller, C. Ronning, “Binary copper oxide semiconductors: From materials towards devices”, Phys. Status Solidi B, 249, 8. pp.1487-1509, Jun. 2012.
• T. Minami, Y. Nishi, T. Miyata, J. Nomoto, “High-Efficiency Oxide Solar Cells with ZnO/Cu₂O Heterojunctions Fabricated on Thermally Oxidized Cu₂O Sheets”, Appl. Phys. Express, 4, 062301, May 2011.
• T. Minami, Y. Nishi, T. Miyata, “High-Efficiency Cu₂O-Based Heterojunction Solar Cells Fabricated Using a Ga₂O₃ Thin Film as a N-Type Layer”, Appl. Phys. Express, 6, 044101, Mar. 2013.
• 寺迫智昭,村上聡宏,矢木正和,白方祥,“塩化亜鉛を原料に用いた溶液成長法によるZnOナノロッドの成長と形状制御”,電子情報通信学会技術研究報告,112,95,pp.23.28, Jun.2012.

タイトルに関連する用語 (8件)： 溶液成長 ,  作製 ,  ZnO ,  CuO ,  ヘテロ接合 ,  電気的特性 ,  中間層 ,  熱処理