文献

J-GLOBAL ID：201702250031068771   整理番号：17A0462697

SF₆プラズマによる希有金属の熱反応性イオンエッチング

Thermal Reactive Ion Etching of Minor Metals with SF₆ Plasma

著者 (5件)： HAN Gang (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  MURATA Yuki (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  MINAMI Yuto (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  SOHGAWA Masayuki (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  ABE Takashi (Niigata Univ., Niigata, JPN)
資料名： Sensors and Materials  (Sensors and Materials)
巻： 29  号： 3  ページ： 217-223  発行年： 2017年 
JST資料番号： L0338A  ISSN： 0914-4935  CODEN： SENMER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,熱的に支援された反応性イオンエッチング(TRIE)を実験及びシミュレーションの両方により評価した。TRIEは普通のRIE装置のエッチング台の代わりに自己加熱台を用いる。自己加熱台はシミュレーション結果に基ずき設計され,そしてラジヲ周波数(RF)電力を印加した時の加熱特性を評価した。この自己加熱台の温度は,加熱台の熱容量が低いので,10分以内に急上昇する。SF₆プラズマによるチタンのエッチングに対しては,0.6μm/分のエッチング速度及び約30というエッチング選択性を達成した。さらに,著者らは初めてさまざまな種類の希有金属(Mo,Ta,Nb及びTi合金)に対するTIEの利用も研究し,普通の反応性イオンエッチング(RIE)よりも高いエッチング速度とエッチング選択性を達成した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： フッ化硫黄 ,  *レアメタル ,  *RIE【エッチング】 ,  加熱 ,  エッチング ,  チタン ,  モリブデン ,  タンタル ,  ニオブ
準シソーラス用語： 六フッ化硫黄 ,  自己加熱 ,  選択エッチング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• M. F. Aimi, M. P. Rao, N. C. Macdonald, A. S. Zuruzi, and D. P. Bothman: Nat. Mater. 3 (2004) 103.
• X. H. Li, T. Abe, and M. Esashi: Sens. Actuators, A 87 (2001) 139.
• E. R. Parker, M. P. Rao, K. L. Turner, C. D. Meinhart, and N. C. MacDonald: J. Microelectromech. Syst. 16 (2007) 289.
• W. M. Haynes: Handbook of Chemistry and Physics, 95th ed. (CRC, 2014).
• F. Fracassi and R d'Agostino: Pure Appl. Chem. 64 (1992) 703.

タイトルに関連する用語 (4件)： SF6 ,  プラズマ ,  希有金属 ,  反応性イオンエッチング