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J-GLOBAL ID：201702291018590713   整理番号：17A0289840

0.33NA EUVLにおけるM1二棒構成ブロックに対するAI分解に基づく光源最適化の実験検証

Experimental verification of AI decomposition-based source optimization for M1 two-bar building blocks in 0.33NA EUVL

著者 (5件)： LAST T. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  WANG Z. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  VAN ADRICHEM P. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  DE WINTER L. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  FINDERS J. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9985  ページ： 99850W.1-99850W.6  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： EUVリソグラフィーは来たるべき技術ノードに採用されると思われる。1D構成から派生して,CD1=CD2=16nm,局所ピッチ=32nm,大域的ピッチ≧160nmの寸法を持つ暗視野2棒構成ブロックを解析した。非対称瞳孔を適用した光源最適化により,相対的最良のフォーカス分離が如何に高まるかに関する最近の予測を実験により検証した。Tachyonで生成した瞳孔は厳密な瞳孔解と似ており,強度スペクトルの均衡により最適化されると結論した。これは焦点深度を50%以上拡大し,相対パターンシフト範囲を最小化する。現時点では,空間像分解による最適化はサブ分解能支援特徴の最適配置であると思われる。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  極端紫外線 ,  開口数 ,  光源 ,  瞳孔 ,  焦点合せ ,  焦点深度 ,  *最適化 ,  画像 ,  *フォトマスク
準シソーラス用語： *EUVマスク ,  *EUVリソグラフィー ,  フォーカシング ,  空間像 ,  *光源マスク最適化

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： EUVL ,  棒 ,  AI ,  分解 ,  最適化 ,  実験検証