文献

J-GLOBAL ID：200902164436180149   整理番号：02A0466435

軟X線アンジュレータからの高輝度放射光アブレーションによるフッ化物薄膜の作製

著者 (6件)： 藤田哲士 (大阪大) ,  折田智洋 (大阪大) ,  寒川雅之 (大阪大) ,  金島岳 (JASRI) ,  奥山雅則 (大阪大) ,  大橋治彦 (JASRI)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 49th  号： 2  ページ： 735  発行年： 2002年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アンジュレータ ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0466435&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： 軟X線 ,  アンジュレータ ,  高輝度 ,  放射光 ,  アブレーション ,  フッ化物 ,  薄膜 ,  作製