文献

J-GLOBAL ID：200902206583683703   整理番号：04A0344264

Photoreflectance分光法によるHfO₂/Si構造の評価

著者 (6件)： 吉田真人 (大阪大 大学院) ,  直山卓示 (大阪大 大学院) ,  寒川雅之 (大阪大 大学院) ,  金島岳 (和歌山工高専) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st  号： 2  ページ： 876  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトリフレクタンス ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0344264&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 分光法 ,  HfO2 ,  Si ,  評価