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J-GLOBAL ID：200902206776197202   整理番号：09A0423971

放射光X線回折を用いたエピタキシャル酸化物薄膜の圧電特性の解析

著者 (14件)： 安井伸太郎 (東京工大) ,  藤澤隆志 (東京工大) ,  加茂嵩史 (東京工大) ,  中島光雅 (東京工大) ,  宇津木覚 (東京工大) ,  矢澤慶祐 (東京工大) ,  山田智明 (東京工大) ,  森岡仁 (東京工大) ,  森岡仁 (Bruker AXS) ,  西田謙 (防衛大) ,  山本孝 (防衛大) ,  坂田修身 (高輝度光科学研究セ) ,  坂田修身 (JST-CREST) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 56th  号： 2  ページ： 578  発行年： 2009年03月30日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 圧電材料 ,  *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  強誘電体 ,  誘電体薄膜 ,  エピタクシー ,  *MOCVD ,  フッ化カルシウム ,  基板 ,  *X線回折 ,  シンクロトロン放射 ,  放射光施設 ,  格子定数 ,  *圧電気 ,  SPring-8

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 放射光X線回折 ,  エピタキシャル ,  酸化物薄膜 ,  圧電特性 ,  解析