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J-GLOBAL ID：200902227614607986   整理番号：09A0995900

紫外光照射下の光応答高分子(6Az10PVA)LB膜からのX線反射率曲線の時分割測定

著者 (6件)： 荒川悦雄 (東京学芸大) ,  松下正 (KEK-PF) ,  丹羽尉博 (KEK-PF) ,  稲田康宏 (立命館大) ,  永野修作 (名古屋大) ,  関隆広 (名古屋大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 70th  号： 2  ページ： 623  発行年： 2009年09月08日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *反射率 ,  *Langmuir-Blodgett膜 ,  光応答性高分子 ,  紫外線照射 ,  *ポリビニルアルコール ,  *光異性化 ,  時分割処理 ,  高分子膜 ,  分光計 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物 ,  *X線反射率
準シソーラス用語： ポリクロメータ

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (1件)： アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (7件)： 紫外光照射 ,  光応答 ,  高分子 ,  LB膜 ,  X線反射率 ,  曲線 ,  時分割