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J-GLOBAL ID：200902231615576143   整理番号：04A0344265

PLD法により作製されたHfO2薄膜のESRによる欠陥評価

クリップ
著者 (5件)：
池田幸司

池田幸司 について

(大阪大)

大阪大 について

, 
多田泰三

多田泰三 について

(大阪大)

大阪大 について

, 
寒川雅之

寒川雅之 について

(大阪大)

大阪大 について

, 
金島岳

金島岳 について

(大阪大)

大阪大 について

, 
奥山雅則

奥山雅則 について

(大阪大)

大阪大 について


資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 について


巻： 51st  号： 2  ページ： 876  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
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レーザ蒸着

レーザ蒸着 について

,...
分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
 酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

,  その他の無機化合物のEPR 
(BM07023D)

その他の無機化合物のEPR について

タイトルに関連する用語 (7件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
PLD法

PLD法 について

, 
作製

作製 について

, 
HfO2

HfO2 について

, 
薄膜

薄膜 について

, 
ESR

ESR について

, 
欠陥

欠陥 について

, 
評価

評価 について


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