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J-GLOBAL ID：200902259535895428   整理番号：08A0942865

放射光X線を用いた(001)配向エピタキシャルBiFeO₃薄膜の電界印加による結晶構造変化の直接観察

著者 (7件)： 安井伸太郎 (東工大 物創) ,  加茂嵩史 (東工大 物創) ,  藤澤隆志 (東工大 物創) ,  山田智明 (東工大 物創) ,  坂田修身 (Spring8) ,  坂田修身 (JST-CREST) ,  舟窪浩 (東工大 物創)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 458  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *鉄酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  *電歪 ,  *シンクロトロン放射 ,  *X線回折 ,  結晶構造解析 ,  結晶方位 ,  エピタクシー ,  MOCVD ,  誘電体薄膜 ,  強誘電体 ,  圧電体 ,  放射光施設 ,  酸化物 ,  ルテニウム化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  SPring-8 ,  圧電定数

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M)

タイトルに関連する用語 (9件)： 放射光 ,  X線 ,  配向 ,  エピタキシャル ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  電界印加 ,  結晶構造 ,  直接観察