文献

J-GLOBAL ID：200902262146932866   整理番号：09A0044152

原子状水素によるSiウエハの抵抗可動と評価

Resist Removal and Evaluation of Si-wafer by Atomic Hydrogen

著者 (6件)： YAMAMOTO Masashi (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  HORIBE Hideo (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  HORIBE Hideo (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  UMEMOTO Hironobu (Shizuoka Univ., Shizuoka, JPN) ,  KUSANO Eiji (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 30th  ページ： 149-150  発行年： 2008年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *抵抗 ,  ナノ構造 ,  *水素 ,  *ウエハ【IC】 ,  *半導体材料 ,  *原子状水素 ,  *シリコンウエハ
準シソーラス用語： *抵抗可動 ,  *Siウエハ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 原子状水素 ,  Siウエハ ,  評価