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J-GLOBAL ID:200902262146932866   整理番号:09A0044152

原子状水素によるSiウエハの抵抗可動と評価

Resist Removal and Evaluation of Si-wafer by Atomic Hydrogen
著者 (6件):
資料名:
巻: 30th  ページ: 149-150  発行年: 2008年 
JST資料番号: Y0378B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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