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J-GLOBAL ID：200902265767138496   整理番号：07A0383076

連続発振レーザーMBEによる有機分子組成傾斜薄膜の作製

著者 (13件)： 柳沼誠一郎 (東京工大) ,  柳沼誠一郎 (東大 新領域) ,  伊高健治 (東大 新領域) ,  伊高健治 (JST-CREST) ,  松本祐司 (東京工大) ,  松本祐司 (JST-CREST) ,  大西剛 (東大 物性研) ,  LIPPMAA Mikk (東大 物性研) ,  長田貴弘 (物質・材料研究機構) ,  知京豊裕 (物質・材料研究機構) ,  鯉沼秀臣 (東大 新領域) ,  鯉沼秀臣 (JST-CREST) ,  鯉沼秀臣 (物質・材料研究機構)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 3  ページ： 1289  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 傾斜機能材料 ,...
準シソーラス用語： 組成傾斜 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： ペンタセン ,  ペンタセン-6,13-ジオン

タイトルに関連する用語 (6件)： 連続発振レーザー ,  MBE ,  有機分子 ,  組成傾斜 ,  薄膜 ,  作製