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J-GLOBAL ID：200902269918333879   整理番号：07A0377784

高密度ラジカルソースの開発とラジカル窒化プロセスへの応用

著者 (10件)： 小田繁尚 (名古屋大 大学院) ,  原安寛 (名古屋大 大学院) ,  近藤博基 (名古屋大 大学院) ,  高島成剛 (名古屋大 大学院) ,  酒井朗 (名古屋大 大学院) ,  小川正毅 (名大 先端研) ,  財満鎭明 (名古屋大 大学院) ,  堀勝 (名古屋大 大学院) ,  田昭治 (片桐エンジニアリング) ,  加納浩之 (NUエコ・エンジニアリング)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 2  ページ： 854  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ラジカル ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： ラジカル ,  ソース ,  開発 ,  ラジカル窒化 ,  プロセス ,  応用